방문규 수은 행장, 반도체 소부장 중소기업 방문..."필요자금 적기 지원"
방문규 수은 행장, 반도체 소부장 중소기업 방문..."필요자금 적기 지원"
  • 김연실 기자
  • 승인 2021.04.15 09:05
  • 댓글 0
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반도체 소재·부품 생산 전문기업 '디에스테크노' 찾아 기업 현장 소통 강화

방문규 수출입은행장이 14일 국가전략산업인 반도체 산업 분야에 대한 금융지원과 소통 강화를 위해 경기도 이천에 소재한 반도체 소재기업을 찾아 "국가전략산업인 반도체 산업 육성을 위해 필요자금을 제때 지원할 것"이라고 밝혔다.

한국수출입은행은 방 행장이 이날 오후 경기도 이천시에 소재한 반도체 특수소재 부품 생산 전문기업 디에스테크노를 방문하여 이같이 밝혔다고 15일 밝혔다.

방문규 수은 행장(사진 왼쪽)이 국가전략산업인 반도체 산업분야에 대한 금융지원과 소통 강화를 위해 14일 오후 경기도 이천시에 있는 반도체 소재기업 디에스테크노를 방문했다. 사진 오른쪽은 정연웅 디에스테크노 본부장./ 사진=수출입은행
방문규 수은 행장(사진 왼쪽)이 국가전략산업인 반도체 산업분야에 대한 금융지원과 소통 강화를 위해 14일 오후 경기도 이천시에 있는 반도체 소재기업 디에스테크노를 방문했다. 사진 오른쪽은 정연웅 디에스테크노 본부장./ 사진=수출입은행

디에스테크노는 첨단 반도체 소자(CHIP)를 생산할 때 사용되는 소모성 부품 제조기업으로, 특수소재인 실리콘카바이드(SiC), 쿼츠(Quartz), 실리콘(Si)을 전문적으로 가공·취급하는 중소기업이다.

반도체 미세화·고(高)단화에 따라 식각공정(Etching Process; 필요한 회로 패턴을 제외한 나머지 부분을 제거하는 과정)에서의 고출력 플라즈마 활용 등 공정의 강도 및 난이도가 높아지고 있어, 식각공정에 사용되는 소모성 부품의 높은 내화학성, 내마모성, 고순도가 요구되는 추세다.

특히 이 기업은 화학기상증착법(CVD; Chemical Vapor Desposition)으로 제조된 고강도·고순도 소재인 CVD-SiC를 가공하여 식각장비 내 웨이퍼가 흔들리지 않게 고정하는 링 등을 생산한다.

화학기상증착법(CVD; Chemical Vapor Desposition)은 원하는 물질을 포함하고 있는 원료가스를 기판 위에 공급해 화학적 반응을 일으켜 증착하는 방법이다.

안학준 디에스테크노 대표이사는 이날 면담 자리에서 "글로벌 반도체 생산량 증가에 따라, 소모성 부품의 교체주기 연장을 통한 생산원가 절감 및 생산성 향상을 위해 고강도·고순도 소재인 CVD-SiC 제품의 국내외 수요가 증가할 것으로 기대된다"면서 "제품 경쟁력 강화 및 생산능력 확대를 위한 지속적 기술개발 및 설비투자를 하기 위해선 수은의 적극적인 금융지원이 필요하다"고 말했다.

이에 대해 방 행장은 "국가 전략산업인 반도체 산업 육성을 위해 관련기업이 필요로 하는 연구개발(R&D), 시설투자자금, 수출에 필요한 운영자금 등 기업이 필요한 자금이 제때 원활히 지원될 수 있도록 수은이 최선을 다하겠다"고 말했다.

앞서 수은은 지난 1월 SK하이닉스, 산업은행과 함께 반도체 산업 소재·부품·장비 관련 중소·중견기업 육성을 위한 1000억원 규모의 반도체 전용 소부장 펀드를 조성하기로 합의한 바 있다.[파이낸셜신문=김연실 기자 ]

 


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